膜厚測(cè)量?jī)xFE-300
簡(jiǎn) 述：
小型?低價(jià)格！簡(jiǎn)單操作”非接觸”膜厚量測(cè)儀FE-300！
品 牌：
日本 大塚電子
產(chǎn)品型號(hào)：
- FE-300
膜厚量測(cè)儀FE-300的特點(diǎn)
*1 細(xì)規(guī)格請(qǐng)咨詢
- 測(cè)試范圍涵蓋薄膜到厚膜
- 基于絕對(duì)反射率光譜分析膜厚
- 小型?低價(jià)，精度高
- 無(wú)復(fù)雜設(shè)定，操作簡(jiǎn)單，短時(shí)間內(nèi)即可上手
- 外觀新穎，操作性提高
- 非線性*小二乘法，實(shí)現(xiàn)光學(xué)常數(shù)解析（n：折射率、k：消光系數(shù)）
對(duì)應(yīng)膜種
○ 多層膜 ○ 折射率傾斜
○ 非干涉膜 ○ 超晶格結(jié)構(gòu)
用途
○ 光學(xué)薄膜（ARfilm、ITO等）
○ FPD相關(guān)（ITO、PI、PC、CF等）
測(cè)量項(xiàng)目
多層膜厚解析
絕對(duì)反射率測(cè)量
光學(xué)常數(shù)解析（n：折射率k:消光系數(shù)）
測(cè)量實(shí)例
式樣
| 型號(hào) | FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR *1 | |
| 本體 | 標(biāo)準(zhǔn)型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 厚膜型（高分辨率） |
| 樣品尺寸 | *大 8 寸晶圓（ 厚度 5 mm ） | |||
| 測(cè)量膜厚范圍（ｎｄ值） | 100 nm ～ 40 μm | 10 nm ～ 20 μm | 3 μｍ ～ 300 μm | 15 μｍ ～ 1.5 mm |
| 測(cè)量波長(zhǎng)范圍 | 450 nm ～ 780 nm | 300 nm ～ 800 nm | 900 nm ～ 1600 nm | 1470 nm ～ 1600 nm |
| 測(cè)量精度 | ± 0.2 nm 以內(nèi) *2 | ± 0.2 ｎｍ 以內(nèi) *2 | - | - |
| 重復(fù)精度 | 0.1 nm 以內(nèi) *3 | 0.1 nm 以內(nèi) *3 | - | - |
| 測(cè)量時(shí)間 | 0.1 s ～ 10 s 以內(nèi) | |||
| 光斑直徑 | 約 φ 3 mm | |||
| 光源 | 鹵素?zé)?/span> | 氙燈與鹵素?zé)?/span> | 鹵素?zé)?/span> | 鹵素?zé)?/span> |
| 通訊接口 | USB | |||
| 尺寸，重量 | 280（W) × 570（D） × 350（H） mm、 約 24 kg | |||
| 軟件功能 | ||||
| 標(biāo)準(zhǔn) | 波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乗法解析 | |||
| 選配功能 | 材料評(píng)價(jià)軟件、薄膜模型解析軟件、標(biāo)準(zhǔn)片解析 | |||
*2 相對(duì)于VLSI 公司產(chǎn)膜厚標(biāo)準(zhǔn)（100nm SiO2/Si）的膜厚保證書記載的測(cè)量保證值范圍
*3 VLSI 公司產(chǎn)膜厚標(biāo)準(zhǔn)（100nm SiO2/Si）的同一點(diǎn)反復(fù)測(cè)量時(shí)的擴(kuò)張不確定度（包括因子2.1）
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