可對應各種選配，膜厚的特制解析
橢圓偏振光測量儀FE5000應用范圍
功能進一步展開的光譜橢圓偏振光測量儀FE5000
橢圓偏振光測量儀FE5000應用范圍
- FPD LCD,PDP,FED,有機El
- 半導體 a-Si，poly-Si，其他
- 復合半導體 半導體激光，強電介質
- 數據儲存 DVD,HDD,磁氣頭
- 光學材料 膜，防放射膜
- 膜 AR膜
FE-5000S
FE-5000的基礎上追加了FE-5000S系列。FE-5000S雖然和FE-5000有相同的基本功能，但是價格低，省空間。光譜橢偏儀的用途也得到擴大。
FE-5000的基礎上追加了FE-5000S系列。FE-5000S雖然和FE-5000有相同的基本功能，但是價格低，省空間。光譜橢偏儀的用途也得到擴大。
功能進一步展開的光譜橢圓偏振光測量儀FE5000
高速高精度
納米級的薄膜膜厚測量
- 非接觸非破壞實現多層膜的解析
材料表面光學常數（n.k）的測量
- 可求得膜厚以及光學定數的波長分散
- 提供膜厚管理膜質管理有用的信息
通過400ch以上的多通道光譜法，迅速測量橢圓光譜
- 可實現一分鐘以內的高速測量
- 光譜點多，所以坡度大的橢圓光譜也可正確測量
利用多波長光譜儀實現高精度高感度測量
測量反射角度可變，對應薄膜的高精度解析
可對應特制解析的材料物性和多層膜等的高度評價
13810233784
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